臥式氫氣還原爐

發(fā)布時間: 2025-02-04 21:50:29    瀏覽次數(shù):1160

臥式氫氣還原爐是一種用于金屬氧化物還原的工業(yè)設備,廣泛應用于冶金、化工、電子材料等領域。該設備通過高溫氫氣環(huán)境,將金屬氧化物還原為純金屬或合金,具有高效、節(jié)能、環(huán)保等特點。臥式設計使得物料在爐內均勻受熱,適用于大規(guī)模連續(xù)生產。



產品詳情
應用領域
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設備特點:

1高效還原采用高溫氫氣還原技術,還原效率高,能夠快速將金屬氧化物還原為純金屬或合金。

2均勻加熱:臥式設計確保物料在爐內均勻受熱,避免局部過熱或欠熱,提高產品質量一致性。

3、節(jié)能環(huán)保采用先進的加熱和保溫技術,能耗低,減少碳排放,符合環(huán)保要求。

自動化控制:配備先進的自動化控制系統(tǒng),實現(xiàn)溫度、壓力、流量等參數(shù)的精確控制,操作簡便,減少人工干預。

4、安全可靠設備配備多重安全保護裝置,超溫報警、壓力保護等,確保運行安全可靠。

5模塊化設計設備采用模塊化設計,便于安裝、維護和升級,適應不同生產需求。

6、廣泛應用適用于多種金屬氧化物的還原,如鐵、銅、鎳、鈷等,廣泛應用于冶金、化工、電子材料等領域。

7、長壽命采用優(yōu)質耐高溫材料制造,設備壽命長,維護成本低。

8、尾氣處理裝置 獨特的點火裝置不但可以使氫氣完全燃燒而且能防止外界空氣進入爐管,大大提高了氫氣使用的安全性。

設備名稱

氫氣還原爐

規(guī)格型號

NBD-VAH1200-20TIDFW

供電電源

220V 50HZ

額定功率

3.5KW

加熱元件

合金電阻絲

控溫精度

±1℃

傳感器類型

K型熱電偶Φ1*500mm

Tmax

1200℃

額定溫度

1150℃

推薦升溫速率

≤10℃/min

浮子流量計

20-200ml/min

石英真空腔有效溫區(qū)尺寸

Φ190*220mm

雙層石英片尺寸

110*228*5mm 187*228*5mm

爐體尺寸

長820×高1240×深640mm

重量

約110kg
設備細節(jié)

加熱元件




控制系統(tǒng)



1、燒結工藝曲線設置:動態(tài)顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置;

2、可預約燒結,實現(xiàn)無人值守燒結工藝曲線燒結;

3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數(shù)據(jù),并可導出實現(xiàn)無紙記錄;

4、具有實現(xiàn)遠程操控,實時觀測設備狀態(tài);

5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進行非線性修正。

設備使用注意事項


1.設備使用時,爐管內壓力不得超過0.15MPa(絕對壓力),以防止壓力過大造成設備損壞;

2.真空下使用時,設備使用溫度不得超過1000℃。

3.供氣鋼瓶內部氣壓較高,向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在選購試驗用小壓力減壓閥,減壓閥量程為相對壓力0.01MPa-0.15MPa,使用時會更加精確安全。

4.當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態(tài),爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài),防止腔體損壞;

5.高純石英管的長時間常壓下的使用溫度≦1150℃;

6.加熱燒結時,應打開排氣端閥門,避免加熱升溫時腔體壓力增大導致腔體破裂。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),氣壓表壓力需在示安全范圍內若絕對壓力反向壓力≦0.05Mpa,或正向壓力≧0.15Mpa時必須立刻打開排氣端閥門,以防意外發(fā)生(如腔體破裂);

7.使用此設備進行高溫燒結,必須連接水冷機才可進行操作,以避免高溫密封硅膠圈融化。

8.慎重燒結含堿性離子的物料,堿性離子會對腔體造成析晶損或。

應用領域

1. 冶金:用于金屬粉末的還原和燒結。

2. 半導體制造:用于電子元件的制造和測試。

3. 材料科學:用于新型材料的合成和處理。

4. 科研與教育:適用于高校、研究所等科研單位進行材料科學、化學工程等領域的研究和教學實驗。

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