主要特點(diǎn)：

1.采用4C靜音真空泵，各方面降噪，提升實(shí)驗(yàn)感受；
2.標(biāo)配樣品室真空表和濺射電流表，實(shí)時(shí)顯示和監(jiān)控儀器狀態(tài)；
3.邊緣橡膠密封圈，長(zhǎng)期使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現(xiàn)象；
4.配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結(jié)合自動(dòng)控制電路，輕松控制真空室壓強(qiáng)、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得很好的鍍膜效果；
5.標(biāo)配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶，濺射范圍更大。

控制面板：

高純石英真空腔體Φ130（內(nèi)118）*130mm

樣品臺(tái)尺寸：Φ42mm

樣品臺(tái)可調(diào)高度：75mm

電氣規(guī)格

AC220V? ?120W

腔體尺寸

Φ130（內(nèi)118）*130mm

樣品臺(tái)尺寸

高純Φ42mm

樣品臺(tái)可調(diào)高度

樣品臺(tái)可調(diào)高度：75mm

樣品溫度

＜35~50℃

適用靶材

貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pb 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等

濺射速度

一般來(lái)說(shuō)，用于掃描樣品時(shí)金屬的厚度為100-300?,采用經(jīng)驗(yàn)法測(cè)定厚度，可由下面的公式得到
d = KIVT
其中： d：是鍍膜厚度(單位?)
K：是常數(shù)，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時(shí)K為0.17，金靶和空氣K為0.07)，此時(shí)靶與樣品之間的距離
I： 是等離子流(單位mA)
V：是所施電壓(單位kv)
T“”是時(shí)間(單位s)。
例如采用金靶和氬氣，l為8mA,T為100秒，V為1KV
則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136?
即每秒1.36?
濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度，因此保護(hù)工作室的清潔十分重要。
其它金屬靶的濺射速度，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度。

設(shè)備使用注意事項(xiàng)

1.靶材的更換
先拔下濺射蓋板上高壓和地線插頭，拿下濺射蓋板，松開三只頂絲，拿下保護(hù)板，然后擰下壓環(huán)就可以更換新靶。
2.真空工作室清洗
腔體工作室用無(wú)水乙醇、丙酮清洗，以保證系統(tǒng)能正常工作。
3、針閥使用
針閥關(guān)閉后再反向擰兩圈，以防止針閥長(zhǎng)時(shí)間不用出現(xiàn)閥針回彈不靈活的現(xiàn)象。如遇到打開針閥時(shí)不向工作室放氣，請(qǐng)將針閥鈕擰到底后再重新打開即可。

標(biāo)配

1.NBD-4C真空泵；

2 金靶1只：Φ58*0.12

3.說(shuō)明書一份.（可選配分子泵）

服務(wù)支持

一年保修，提供終身服務(wù)；

凈重

25KG