化學(xué)氣相沉積CVD一體機
發(fā)布時間： 2021-04-14 18:17:11 瀏覽次數(shù)：2922
設(shè)備簡介：
化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來沉積薄膜材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)?？茖W(xué)等領(lǐng)域；
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設(shè)備特點 1.爐體與控制系統(tǒng)集成一體化，使試驗方便快捷直觀。 2.配置浮子流量計或質(zhì)量流量計混氣氣路，可以單獨設(shè)置氣體流量。 3.精確PID程序多段控制，實現(xiàn)不同工藝多段溫度時間監(jiān)控。 4.爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料，保溫效果極佳。 5.配備機械泵或分子真空泵，可以實現(xiàn)不同的真空條件。 | |||||||||
產(chǎn)品型號 | NBD-T1700-80TIG3Z | |||||||||
工作溫度 | ≤1650℃ | |||||||||
加熱區(qū)尺寸 | 310mm | |||||||||
| 恒溫區(qū)尺寸 | 220mm | |||||||||
升溫速率 | ≤20℃/min | |||||||||
電氣規(guī)格 | AC220 4.5KW | |||||||||
| 控制系統(tǒng) |  | 1、燒結(jié)工藝曲線設(shè)置：動態(tài)顯示設(shè)置曲線，設(shè)備燒結(jié)可預(yù)存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設(shè)置； | ||||||||
氣體系統(tǒng)（可選購） | 流量計類型 | 浮子流量計 | 質(zhì)量流量計 | |||||||
管道示意圖 |
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進氣接口數(shù)量 | 2、3、4（多路可選） | |||||||||
流量范圍 | 20-200/60-600l/min(多量程可選) | 50/100/200sccm(多量程可選) | ||||||||
工作壓差范圍 | 0-0.15MPa | |||||||||
低真空系統(tǒng)（可選購） | 真空泵型號 | NBD-1.5C | NBD-3C | NBD-4C | ||||||
抽氣速率 | 1L/s | 3L/s | 4L/s | |||||||
進排氣口尺寸 | Φ8mm寶塔接頭 | Φ8mm寶塔接頭 | KF16/25 | |||||||
極限壓力 | 1000Pa | 100Pa | 10Pa | |||||||
工作溫度 | 5-40℃ | |||||||||
電氣規(guī)格 | AC220V | |||||||||
分子泵高真空系統(tǒng) （可選購） | 分子泵系統(tǒng)型號 | NBD-103(A) | NBD-103(B) | NBD-103(C) | ||||||
抽氣速率 | 110L/s | 600L/s | 700L/s | |||||||
真空測量計 | 復(fù)合真空計 | |||||||||
極限壓力 | 10^-3Pa | 10^-4Pa | 10^-5Pa | |||||||
工作溫度 | 5-40℃ | |||||||||
電氣規(guī)格 | AC 220V | AC 220V | AC 380V | |||||||
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