1500℃ CVD系統(tǒng)

發(fā)布時間: 2024-04-28 15:56:07    瀏覽次數:931

設備簡介:

化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業(yè)中應用非常廣泛的用來沉積薄膜材料的技術,包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統(tǒng),適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學等領域。

  

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設備特點:

1、采用高純氧化鋁材質爐管,耐腐蝕耐高溫性能優(yōu)越;

2、高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果突出,有效地降低了設備功耗;

3、爐體采用雙層風冷結構工藝,有助于快速降低殼體表面溫度;

4、采用智能PID模糊溫度控制,7英寸觸摸屏集中操控,可直觀顯示“時間-溫度”曲線;

設備名稱

高溫CVD系統(tǒng)

T-max

1500℃

電源

單相220V 50HZ

額定功率

6KW

測溫元件類型

S型熱電偶φ8*205mm

Tmax

1450℃

加熱溫度區(qū)尺寸

第一個溫度區(qū):Φ100*225mm? 第二個溫度區(qū):Φ100*225mm

爐管尺寸

Φ100*1200mm

外形尺寸

長1414m×高720mm×深514mm

加熱速率

1℃/H-20℃/Min

重量

350kg

控制系統(tǒng)

1、燒結工藝曲線設置:動態(tài)顯示設置曲線,設備燒結可預存多條工藝曲線,每條工藝曲線可自由設置;

2、可預約燒結,實現(xiàn)無人值守燒結工藝曲線燒結;

3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實現(xiàn)無紙記錄;

4、具有實現(xiàn)遠程操控,實時觀測設備狀態(tài);

5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進行非線性修正

溫度精度

±1℃

加熱元件

抗酸耐腐性能優(yōu)越的高純硅碳棒

密封系統(tǒng)

真空度:10Pa(機械泵)

壓力測量與監(jiān)控

采用機械壓力表,表外殼為氣密型結構,能有效保護內部機件免受環(huán)境影響和雜物侵入,同時具有較強的耐腐蝕和耐高溫的能力。

供氣系統(tǒng)

采用浮子流量計控制氣體流速,與設備集成為一體,且出廠前已進行漏氣測試工作。

凈重

350kg

設備使用注意事項

1、設備爐膛溫度≥300℃時,禁止打開爐膛,避免受到傷害;

2、爐膛連續(xù)使用產生的輕微裂紋屬于正常現(xiàn)象,不影響設備的正常使用;

服務支持

一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如處理管和O形圈,請在下面的相關產品處訂購更換件。)




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